壓電掃描臺應用于納米壓印
納米壓印是一種全新的納米圖形復制方法，實質是將傳統的模具復型原理應用到微觀制造領域。它是通過將刻有目標圖形的母版壓印到相應的襯底（通常是一層很薄的聚合材料）上實現圖形轉移，以完成微納米加工的光刻步驟。納米壓印技術是制作納米結構的關鍵，具有廣闊的應用前景。
利用芯明天P18.XY300二維掃描臺，可帶動鍍膜鏡片在0~300μm的平面內對讀取的圖像信息進行優化，同時控制激光器及掃描臺，二者配合完成圖像的納米精度加工。
下圖為通過芯明天運動控制軟件操作二維壓電掃描臺，激光光刻的100μm×100μm圖標。
P18.XY300壓電掃描臺
P18.XY300為二維直線掃描臺。臺體采用機構放大設計原理，內置高可靠性壓電陶瓷，可以實現375μm的高速掃描，運動直線性好，配套芯明天大功率控制器響應時間可達5ms，通光孔徑為Ø35mm，是精密加工、半導體制造、掃描顯微等應用的不錯選擇。
特點
·位移可達375μm/軸
·承載達3kg
·通孔直徑：Ø35mm
·閉環重復定位精度高
階躍時間
單點定位應用，P18.XY300S帶載100g負載階躍時間60ms。
技術參數
型號 | 尾綴S-閉環尾綴K-開環 | P18.XY300S P18.XY300K | 單位 |
運動自由度 | X、Y | ||
標稱行程范圍（0~120V） | 300或±150/軸 | μm±20% | |
行程范圍（0~150V） | 375或±187.5/軸 | μm±20% | |
傳感器類型 | SGS/- | ||
通孔尺寸 | Ø35 | mm | |
閉/開環分辨率 | 10/5 | nm | |
閉環線性度 | 0.2/- | %F.S | |
閉環重復定位精度 | 0.15/- | %F.S | |
俯仰/偏航/滾動 | <15 | μrad | |
推/拉力 | 150/150 | N | |
運動方向剛度 | X0.5/Y0.5 | N/μm±20% | |
空載諧振頻率 | X250/Y500 | Hz±20% | |
閉/開環空載階躍時間 | 50/10 | ms±20% | |
閉環空載 工作頻率 | 10%行程 | 40 | Hz±20% |
行程 | 10 | ||
承載能力 | 3 | kg | |
靜電容量 | 21/軸 | μF±20% | |
材質 | 鋁 | ||
重量 | 380 | g±5% | |
